AR Perfection Clay – oczyszczająca maska z siarką 15 ml

Lecznicza maska ​​detoksykująca, która oczyszcza skórę i zmniejsza widoczność rozszerzonych porów za pomocą mieszanki glinek, jednocześnie redukując bakterie siarką i rezorcynolem. Ta silna maska ​​polecana jest przy intensywnych zmianach trądzikowych.

Rodzaj skóry:
Skóra tłusta, trądzik zapalny, trądzik pospolity

Korzyści:

• Zapewnia detoksykujące wsparcie
• Równoważy nadmiar sebum
• Poprawia rozszerzone pory
• Pomaga w leczeniu zmian torbielowatych
• Oferuje właściwości antyseptyczne
• Zmniejsza stan zapalny

Składniki aktywne:

• Kwas salicylowy – znany jako beta-hydroksykwas (BHA), ten kluczowy składnik działa na kilka czynników związanych z trądzikiem, w tym zwiększenie złuszczania komórek, zmniejszenie liczby bakterii i zmniejszenie stanu zapalnego. Ten związek aktywny przenika przez sebum i zmniejsza nadmierne rogowacenie w obrębie porów.
• Bentonit – rodzaj gliny, która wyciąga zanieczyszczenia i toksyny, wychwytując je i pomagając w ich usuwaniu.
• Kaolin – rodzaj glinki, która pochłania sebum i pomaga w odblokowaniu zatkanych porów. Siarka – ten składnik zapewnia silne wsparcie antybakteryjne dla skóry skłonnej do trądziku. Świetnie przyspiesza gojenie i wysuszanie porów wypełnionych olejem.
• Rezorcynol – stosowany jako środek antyseptyczny i dezynfekujący, ten składnik wspomaga proliferację komórek i zmniejsza świąd (silne swędzenie) na skórze.
• Żywica Cistus Ladaniferus (Labdanum) – Znana z właściwości ściągających, antybakteryjnych, redukuje bakterie i stany zapalne skóry.
• Totarol – środek przeciwbakteryjny o szerokim spektrum działania z drzewa totara, ten naturalny ekstrakt hamuje zużycie tlenu, dusząc bakterie P. acne tak skuteczne jak nadtlenek benzoilu, bez ryzyka przesuszenia skóry.
• Olejek z liści Melaleuca Alternifolia (drzewa herbacianego) – olejek eteryczny o silnych właściwościach bakteriobójczych, przeciwbakteryjnych i przeciwzapalnych.

Porada:
W przypadku leczenia przebarwień potrądzikowych zaleca się łączenie z Wasabi Mask.